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無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-18
  • 訪  問  量:1706
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產(chǎn)品詳情

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復(fù)合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機

SGN研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出結(jié)果產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

鋰電池作為新型的二次電池,具有高能量密度、循環(huán)壽命長等優(yōu)點,其應(yīng)用范圍不斷擴展,被大量應(yīng)用于便攜式電子裝置、電動工具、儲能和動力汽車中,尤其隨著新能源行業(yè)的快速發(fā)展,鋰電池被越來越多的應(yīng)用到動力汽車中。然而,頻繁發(fā)生的鋰電池安全事故日益引起了人們的廣泛關(guān)注。其中,隔膜作為鋰電池的重要組成部分,可以有效防止正、負極接觸發(fā)生短路,對鋰電池的安全性具有非常重要的影響,因此,鋰電池性能的提升及安全性要求對隔膜的性能有著更高的要求。

聚烯烴隔膜是目前使用廣泛的鋰電池隔膜,但是,市場上現(xiàn)有的聚烯烴隔膜存在熱收縮率大和親電解液不足的問題。為了改善聚烯烴隔膜的耐熱性和電解液浸潤性,目前主要的解決方案是在聚烯烴隔膜的單面或雙面涂覆涂層,這種涂層在一定程度上可以改善隔膜的熱穩(wěn)定性,同時與電解液有良好的浸潤性。隨著鋰電池的發(fā)展,對其能量密度要求越來越高,導(dǎo)致電池內(nèi)部環(huán)境越來越苛刻,普通的無機涂層不能達到高溫(大于150攝氏度)條件下的熱穩(wěn)定性能,因此尋求下一代熱穩(wěn)定性能優(yōu)異的隔膜就成了當務(wù)之急。

芳綸以其高強度、高模量、耐化學(xué)腐蝕的特性,被廣泛應(yīng)用于航空航天、電器和特種品開發(fā)等領(lǐng)域,其分解的溫度可達590℃,能大大提高電池的耐熱性和安全性能。然而,芳綸樹脂難溶難熔,只能溶解在濃硫酸中,工藝復(fù)雜,設(shè)備要求耐強酸腐蝕,加工比較困難,從而限制了芳綸材料的應(yīng)用領(lǐng)域。

制備芳綸涂覆的鋰電池隔膜時,多直接使用DMAC、DMF、NMP、DMSO等有機溶劑配合助溶劑溶解芳綸纖維制備芳綸溶解液,然后添加成孔劑得芳綸漿料,使涂覆膜浸凝固液固化,Z后經(jīng)水洗、烘干制得芳綸涂覆鋰電池隔膜。該方法仍存在以下問題:

1、芳綸纖維需加熱溶解,該過程會導(dǎo)致芳綸漿料引入雜質(zhì)較多,部分芳綸纖維分解,造成耐熱性及機械性能變差;

2、現(xiàn)有的芳綸涂層對鋰電池隔膜的耐高溫性能改善有限;

3、現(xiàn)有的芳綸涂層易形成致密孔而影響透氣性。

 

從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個關(guān)鍵因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

 

GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到允許量的

 

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復(fù)合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機

 

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